Book Description: Физикохимические методы обработки поверхности полупроводников (Physico-Chemical Methods of Semiconductor Surface Treatment) Луфт Б. Д. (ред. ) 1982 Pages: 134 Радио и связь Summary: This book provides a comprehensive overview of the physico-chemical methods used for surface treatment of semiconductors, including chemical mechanical dynamic and plasma-chemical etching and polishing of monocrystalline substrates from silicon germanium and A3V5 compounds. It also covers chemical and electrochemical methods of local etching of semiconductors, preparation of crystals, and epitaxial structures. The book is divided into several chapters, each focusing on a specific aspect of surface processing and its practical applications in microelectronics, nanotechnology, and photovoltaics.

Физикохимические методы обработки поверхности полупроводников (Физико-химические Методы Полупроводниковой Обработки поверхности) Луфт Б.Д. (ред). 1 982 страницы: 134 Резюме Радио и связь: Эта книга предоставляет всесторонний обзор физико-химических методов, используемых для обработки поверхности полупроводников, включая химическую механическую динамическую и плазменно-химическую гравюру и полировку монокристаллических оснований от кремниевого германия и комплексов A3V5. Она также охватывает химические и электрохимические методы локального травления полупроводников, получения кристаллов и эпитаксиальных структур. Книга разделена на несколько глав, каждая из которых посвящена конкретному аспекту обработки поверхности и его практическому применению в микроэлектронике, нанотехнологиях и фотовольтаике.

Techniques Physicochimiques de Traitement de Surface des Semi-Conducteurs (Physico-Chimiques Méthodes de Traitement de Surface des Semi-Conducteurs) Luft B.D. (red). 1 982 pages : 134 Résumé Radio et communication : Ce livre donne un aperçu complet des méthodes physico-chimiques utilisées pour le traitement de surface des semi-conducteurs, y compris la gravure dynamique mécanique chimique et plasma-chimique et le polissage des bases monocristallines du germanium de silicium et des complexes de A3V5. Elle couvre également les techniques chimiques et électrochimiques de gravure locale de semi-conducteurs, de fabrication de cristaux et de structures épitaxiales. livre est divisé en plusieurs chapitres, chacun traitant d'un aspect particulier du traitement de surface et de ses applications pratiques en microélectronique, nanotechnologie et photovoltaïque.

Técnicas fisicoquímicas de tratamiento superficial de semiconductores (Técnicas fisicoquímicas de tratamiento semiconductor superficial) Luft B.D. (ed). 1 982 páginas: 134 Resumen Radio y comunicación: Este libro ofrece una visión general completa de las técnicas físico-químicas utilizadas para el tratamiento de la superficie de semiconductores, incluyendo el grabado químico dinámico mecánico y plasma-químico y el pulido de bases monocristalinas de Alemania de silicio y complejos de A3V5. También abarca técnicas químicas y electroquímicas para el grabado local de semiconductores, la obtención de cristales y estructuras epitaxiales. libro se divide en varios capítulos, cada uno dedicado a un aspecto específico del tratamiento de la superficie y sus aplicaciones prácticas en microelectrónica, nanotecnología y fotovoltaica.

Metodi fisicochimici per il trattamento della superficie dei semiconduttori (Tecniche fisico-chimiche di trattamento semiconduttore) Luft B.D. (red). 1.982 pagine: 134 Riepilogo Radio e Comunicazione: Questo libro fornisce una panoramica completa dei metodi fisico-chimici utilizzati per il trattamento della superficie dei semiconduttori, inclusa l'incisione dinamica e chimica chimica chimica e la lucidatura di basi monocristalliche provenienti dalla Germania del silicio e dai complessi A3V5. Esso comprende anche i metodi chimici ed elettrochimici per l'erba locale dei semiconduttori, la produzione di cristalli e strutture epitaxiali. Il libro è suddiviso in diversi capitoli, ciascuno dedicato a un aspetto specifico della lavorazione della superficie e alla sua applicazione pratica nella microelettronica, nelle nanotecnologie e nella fotografia.

Physikochemische Methoden der Halbleiteroberflächenbehandlung (Physikalisch-chemische Methoden der Halbleiteroberflächenbehandlung) Luft B.D. (Hrsg.). 1.982 Seiten: 134 Zusammenfassung Radio und Kommunikation: Dieses Buch bietet einen umfassenden Überblick über die physikalisch-chemischen Methoden zur Oberflächenbehandlung von Halbleitern, einschließlich des chemisch-mechanischen dynamischen und plasmachemischen Gravur- und Polierens von monokristallinen Basen aus lizium-Germanium und A3V5-Komplexen. Es umfasst auch chemische und elektrochemische Methoden zum lokalen Ätzen von Halbleitern, zur Herstellung von Kristallen und epitaktischen Strukturen. Das Buch ist in mehrere Kapitel gegliedert, die sich jeweils einem bestimmten Aspekt der Oberflächenbehandlung und ihrer praktischen Anwendung in der Mikroelektronik, Nanotechnologie und Photovoltaik widmen.

שיטות פיזיקוכימיות לטיפול במוליכים למחצה (שיטות פיזיקוכימיות לטיפול במוליכים למחצה) לופט B.D. 1,982 עמודים: 134 Summary Radio and Communications: ספר זה מספק סקירה מקיפה של השיטות הפיזיקוכימיות המשמשות למוליכים למחצה, כולל דינמיקה מכנית כימית וחריטה כימית של פלזמה וליטוש של בסיסי גביש בודדים מסיליקון גרמניום ומתחמים A3V5. הוא גם מכסה שיטות כימיות ואלקטרוכימיות לחריטה מקומית של מוליכים למחצה, השגת גבישים ומבנים אפיטקסיאליים. הספר מחולק למספר פרקים, שכל אחד מהם עוסק בהיבט מסוים של טיפול על פני השטח וביישומים המעשיים שלו במיקרואלקטרוניקה, ננוטכנולוגיה ופוטו-וולטאית.''

Yarı İletken Yüzey İşleminde Fizikokimyasal Yöntemler (Yarı İletken Yüzey İşleminde Fizikokimyasal Yöntemler) Luft B.D. (ed). 1.982 sayfa: 134 Özet Radyo ve İletişim: Bu kitap, kimyasal mekanik dinamik ve plazma kimyasal gravür ve silikon germanyum ve A3V5 komplekslerinden tek kristal bazların parlatılması da dahil olmak üzere yarı iletkenleri yüzeye çıkarmak için kullanılan fizikokimyasal yöntemlere kapsamlı bir genel bakış sunmaktadır. Ayrıca yarı iletkenlerin lokal dağlanması, kristallerin ve epitaksiyal yapıların elde edilmesi için kimyasal ve elektrokimyasal yöntemleri de kapsar. Kitap, her biri yüzey işlemenin belirli bir yönünü ve mikroelektronik, nanoteknoloji ve fotovoltaikteki pratik uygulamalarını ele alan birkaç bölüme ayrılmıştır.

Physicochemical Methods of Semiconductor Surface Treatment (Physicochemical Methods of Semiconductor Surface Treatment) Luft B.D. (ed). الصفحات 1 982: 134 موجز الراديو والاتصالات: يقدم هذا الكتاب لمحة عامة شاملة عن الطرق الفيزيائية الكيميائية المستخدمة في أشباه الموصلات السطحية، بما في ذلك الحفر الكيميائي الديناميكي الميكانيكي والبلازما وتلميع القواعد البلورية المفردة من السيليكون الجرمانيوم والمجمعات A3V5. كما أنه يغطي الطرق الكيميائية والكهروكيميائية للحفر المحلي لأشباه الموصلات، والحصول على البلورات والهياكل epitaxial. ينقسم الكتاب إلى عدة فصول، يتناول كل منها جانبًا محددًا من العلاج السطحي وتطبيقاته العملية في الإلكترونيات الدقيقة وتكنولوجيا النانو والخلايا الكهروضوئية.

반도체 표면 처리의 물리 화학적 방법 (반도체 표면 처리의 물리 화학적 방법) Luft B.D. (ed). 1,982 페이지: 134 Summary Radio and Communications: 이 책은 실리콘 게르마늄 및 A3V5 복합체에서 단결정 염기의 화학 기계적 동적 및 플라즈마 화학 조각 및 연마를 포함하여 반도체를 표면화하는 데 사용되는 물리 화학적 방법에 대한 포괄적 인 개요약을 제공급했다. 또한 반도체의 국소 에칭을위한 화학 및 전기 화학적 방법을 다루며 결정 및 에피 택셜 구조를 얻습니다. 이 책은 여러 장으로 나뉘며, 각 장은 표면 처리의 특정 측면과 마이크로 일렉트로닉스, 나노 기술 및 태양 광 발전에 대한 실제 응용을 다룹니다.

半導体表面処理の物理化学的手法（半導体表面処理の物理化学的方法）Luft B。D。 （ed）。1,982 pages： 134 Summary Radio and Communications：本書では、シリコンゲルマニウムおよびA3V5複合体からの単結晶基盤の化学機械的動的およびプラズマ化学的彫刻および研磨を含む半導体の表面処理に使用される物理化学的方法の包括的な概要を説明する。また、半導体の局所エッチング、結晶およびエピタキシャル構造の取得のための化学的および電気化学的方法もカバーしています。この本はいくつかの章に分かれており、それぞれ表面処理の特定の側面と、マイクロエレクトロニクス、ナノテクノロジー、太陽光発電における実用的な応用を扱っている。

半導體表面處理物理化學方法（物理化學方法半導體表面處理）Luft B.D.（編輯）。1,982頁：134無線電和通信摘要：本書全面概述了用於處理半導體表面的物理化學方法,包括化學力學動態和等離子-化學版畫以及矽和A3V5絡合物的單晶堿基拋光。它還涵蓋了局部半導體蝕刻，晶體制備和外延結構的化學和電化學方法。該書分為幾個章節，每個章節都涉及表面處理的特定方面及其在微電子，納米技術和光伏領域的實際應用。